在高科技迅猛發(fā)展的今天，DNA合成儀已經(jīng)成為生物學、醫(yī)學研究以及生物技術(shù)領(lǐng)域中無法缺少的重要工具。DNA合成儀通過自動化合成寡核苷酸鏈，極大地提升了科研和制藥行業(yè)的效率。而在這一過程中，Werther(Sil-air)空氣壓縮機發(fā)揮著至關(guān)重要的作用。DNA合成儀的工作原理復(fù)雜且精...
Proportion-Air制造了幾種不同的產(chǎn)品，這些產(chǎn)品設(shè)計用于安裝在具有共用進氣口和排氣口的閥組上。這些產(chǎn)品通常用于空間有限但精度和可重復(fù)性至關(guān)重要的力壓控制應(yīng)用。在該圖中，安裝在SBM-7底座歧管上的七臺MPV1正在控制彈簧加載的減摩Airpel氣缸上的力，以測試小型汽車零...
液壓是氣缸速度控制應(yīng)用的傳統(tǒng)方法。使用Proportion-AirF系列質(zhì)量流量控制器，就不需要傳統(tǒng)的液壓控制了。僅使用壓縮空氣即可控制氣缸的速度，使用比例空氣FA系列閉環(huán)質(zhì)量流量控制閥進行控制。該產(chǎn)品響應(yīng)速度非?？?，您可以隨時調(diào)整速度。比例空氣封閉系統(tǒng)閥門非常精確。離開氣缸（到...
在半導體工業(yè)中，一種稱為化學機械平面化(CMP)的工藝用于拋光晶片。這些晶圓用于硬盤驅(qū)動器和其他組件以存儲和檢索信息。CMP機器墊拋光是生產(chǎn)高質(zhì)量晶圓的關(guān)鍵步驟。此過程旨在去除多余的材料并形成光滑的表面。許多不同類型的焊盤可用于在晶片上創(chuàng)建所需的表面。然而，所有這些墊都必須以可重...
被稱為化學機械平面化(CMP)的工藝通常用于半導體行業(yè)，將硅晶片拋光成可用于硬盤驅(qū)動器和其他計算機組件的產(chǎn)品。CMP拋光力控制是CMP工藝的重要組成部分。如果在整個拋光過程中施加的力不一致且不可重復(fù)，則晶圓會損壞——生產(chǎn)這些晶圓的過程非常昂貴。半導體晶圓經(jīng)過研磨和拋光至鏡面光潔度...
用硅晶片制造出平坦表面是集成電路制造的必要條件。當您在納米范圍內(nèi)工作時，您需要確保您的氣動裝置與您的工藝一樣精確。通過將施加在拋光墊上的壓力控制在小至滿量程的0.005%的增量，比例空氣閥提供了這種信任，同時也是業(yè)內(nèi)最高分辨率之一。在半導體工業(yè)中，晶圓是用于許多不同應(yīng)用的硅錠薄片...
航空航天工業(yè)在其組件和組件的生產(chǎn)和性能過程中依賴于精確和高質(zhì)量的測試。閉環(huán)壓力和真空控制是測試過程的重要組成部分。壓力和高度的不斷變化需要精確的儀表來確保航空航天設(shè)備的安全運行。在航空航天工業(yè)中使用閉環(huán)壓力和真空控制裝置的各個領(lǐng)域包括：·由于頻繁的高度變化而對飛機部件進行壓力測試...
輪胎行業(yè)應(yīng)用1-飽和硫化蒸汽溫度控制解決方案遠程安裝的QB2比例閥控制，DSTY不銹鋼壓力傳感器，HP系列蒸汽調(diào)壓閥構(gòu)成閉環(huán)壓力控制系統(tǒng)，自動對工藝過程中的蒸汽流量變化進行補償，以*控制精度將壓力/溫度維持在所需水平（重復(fù)精度0.6%）。輪胎行業(yè)應(yīng)用1-飽和硫化蒸汽溫度控制解決方...
靜音無油空壓機OFCS-A38.4產(chǎn)品應(yīng)用：1.實驗室：氣相色譜分析（G.C.），高效液相色譜分析（H.P.L.C.），離子色譜法（I.C.），光譜學（X-red，紅外，紫外線，AA，質(zhì)量，NMR），流變儀，粘度計，粒度分析儀，光學平臺，顯微鏡，發(fā)生器(膜)氮氣，氧氣，無二氧化碳...
真空釬焊爐是在真空環(huán)境中對精密器械進行熱處理的大型設(shè)備。能夠進行真空釬焊、真空退火、真空時效等多種加工。因其能精確控制工件溫度加熱均勻、工件變形小,釬焊難焊的高溫合金材料,不用釬劑,釬焊質(zhì)量好等優(yōu)點，在工業(yè)制造領(lǐng)域中得到迅速的發(fā)展和廣泛的應(yīng)用。電氣比例閥，作為真空釬焊爐壓力控制中...
光學平臺壓縮機的理想選擇--WERTHER*、便攜壓縮機光學平臺，又稱光學面包板、光學桌面、科學桌面，是供水平、穩(wěn)定的臺面，通常光學平臺都采用隔振等措施，保證其不受外界因素干擾，使科學實驗得以正常進行。目前光學平臺已廣泛應(yīng)用于光學、電子、精密機械制造、冶金、航天、航空、航海、精密...
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